制藥廠純化水制備系統工藝流程：

1、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→ 微孔過濾器→用水點

3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

超純水是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。

超純水是純度*的水。集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。

超純水，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm

制藥廠純化水制備系統日常保養工作如下：

1、制藥純化水設備的原水閥門應保持常開狀態，原水箱中液位應有浮球控制。原水箱中設置有排污水閥，以便定期清理水箱，降低水箱內滋生細菌的風險。

2、制藥純化水設備在停機時，應做好停機維護，以免影響后續設備的穩定產水。用原水對多介質過濾器和或活性炭過濾器進行反沖洗。并且，為保證產水水質，預處理裝置中濾料應定期更換，比如石英砂和或活性炭約一年更換一次，實際可視原水水質而定。

3、制藥純化水設備應根據原水水質和設備的運行情況，設定軟水器的運行周期和時間。

4、制藥純化水設備應做好定期檢查，注意及時更換精密過濾器的濾芯，以免濾芯因安裝或者質量問題出現泄漏而導致反滲透膜污染。精密過濾器中的PP濾芯清洗周期，一般每月清洗一次，每半年更換一次。另外，在設備運行時，要經常檢查精密過濾器中是否有氣體，以免空氣進入反滲透系統。

5、制藥純化水設備產水水質的有效分析也很重要。根據設備制水實際情況，注意及時調整絮凝劑、殺菌劑、阻垢劑的加藥量。

6、制藥純化水設備投入使用一段時間后，如果設備制水和初始時狀態相比，反滲透系統產水量逐漸下降10%，或者產水水質達不到要求的質量標準時，應及時對反滲透膜進行化學清洗。